2025年6月12日,在法国巴黎凡尔赛门展览中心举行的Viva Technology创新与初创企业大会上,可以看到华为标志。 (档案照)
2025年6月12日,在法国巴黎凡尔赛门展览中心举行的Viva Technology创新与初创企业大会上,可以看到华为标志。 (档案照)

Huawei Menjangka Akan Mereka Cip Dengan Ketumpatan Transistor Setara Proses 1.4nm Dalam Lima Tahun

Published at May 25, 2026 10:27 am
Walaupun sekatan Amerika Syarikat menyebabkan China sukar mendapatkan peralatan yang diperlukan untuk menghasilkan cip paling canggih di dunia, gergasi teknologi China, Huawei tetap menjangka akan mereka cip berteknologi tinggi dengan ketumpatan transistor setara proses 1.4 nanometer menjelang tahun 2031.


Berdasarkan laporan perkhidmatan pelanggan Renmin Ribao dan Reuters, Seminar Antarabangsa Litar dan Sistem 2026 telah diadakan di Shanghai pada hari Isnin (25 Mei). Pengarah Huawei dan Presiden Bahagian Perniagaan Semikonduktor, He Tingbo, dalam ucaptama rasminya, telah memartabatkan "Hukum Tao". Ini merupakan kali pertama China mengemukakan prinsip baharu bagi membimbing pembangunan industri semikonduktor global.


Berdasarkan hukum ini, Huawei telah berjaya mereka bentuk dan mengeluarkan 381 jenis cip secara besar-besaran dalam tempoh enam tahun lepas. Musim luruh ini, Huawei akan melancarkan cip telefon pintar Kirin baharu yang menggunakan teknologi lipatan logik sepenuhnya, sekali gus meningkatkan prestasi berkaitan dengan ketara.

Sebagaimana dilaporkan, "Hukum Tao" membina sistem pengoptimuman kolaboratif pelbagai lapisan yang merangkumi peranti, litar, cip dan sistem. Dijangka menjelang 2031, cip berteknologi tinggi berasaskan hukum tersebut akan mencapai ketumpatan transistor setara dengan proses 1.4 nanometer.


Walaupun Huawei tidak menyediakan data prestasi bebas, matlamat ini tetap signifikan kerana dijangka menjelang akhir abad ini, proses 1.4nm akan berada di barisan terhadapan cip canggih dunia. 

Author

联合日报新闻室


相关报道