Menurut laporan media asing yang memetik sumber, para saintis China pada awal tahun ini telah membina prototaip mesin litografi ultraungu ekstrem (EUV) di sebuah makmal di Shenzhen, yang kini berada dalam fasa ujian. Saiznya hampir memenuhi seluruh tingkat kilang, dan mampu menghasilkan cip yang digunakan untuk kecerdasan buatan (AI), telefon pintar serta senjata canggih.
Laporan tersebut menyatakan, projek rahsia ini diibaratkan sebagai “Projek Manhattan China”, menonjolkan keazaman China untuk menandingi Barat dalam bidang teknologi cip AI. “Projek Manhattan” yang dimaksudkan ialah projek rahsia Amerika Syarikat yang membangunkan bom atom semasa zaman perang.
Dibangunkan oleh Pasukan Jurutera Bekas ASML
Laporan itu juga menyebut, mesin litografi EUV ini dibangunkan oleh pasukan bekas jurutera dari syarikat pembuat peralatan cip dari Belanda, ASML, dengan menjalankan kejuruteraan songsang terhadap teknologi litografi EUV yang dihasilkan ASML. Mesin litografi EUV China ini kini sudah boleh beroperasi dan berjaya menghasilkan cahaya ultraungu ekstrem, namun masih belum menghasilkan cip yang boleh digunakan. Sasaran kerajaan China adalah untuk menghasilkan cip melalui prototaip ini sebelum tahun 2028, namun menurut pihak yang terlibat, pengeluaran secara besar-besaran berkemungkinan hanya akan tercapai pada tahun 2030.